例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。

正确答案:离子注入的优点：
（1）精确控制杂质含量和分布
（2）很好的杂质均匀性
（3）对杂质穿透深度有很好的控制
（4）产生单一离子束
（5）低温工艺
（6）注入的离子能穿透薄膜
（7）无固溶度极限
离子注入的缺点：
（1）高能杂质离子轰击硅原子将对晶体结构产生损伤
（2）注入设备的复杂性

答案解析:有

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