制造半导体元件时,常常需要测定硅片上的二氧化硅薄膜的厚度.可以将二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉,露出一个倾斜的劈尖膜.用波长为589.3nm的钠光垂直照射,观察到如图所示的条纹.已知硅的折射率为3.42,二氧化硅的折射率n=1.52,计算此氧化层的厚度d.
正确答案:
答案解析:有
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制造半导体元件时,常常需要测定硅片上的二氧化硅薄膜的厚度.可以将二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉,露出一个倾斜的劈尖膜.用波长为589.3nm的钠光垂直照射,观察到如图所示的条纹.已知硅的折射率为3.42,二氧化硅的折射率n=1.52,计算此氧化层的厚度d.
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