叙述氮化硅的湿法化学去除工艺。
正确答案:去除氮化硅使用热磷酸进行湿法化学剥离掉的。这种酸槽一般始终维持在160℃左右并对露出的氧化硅具有所希望的高选择比。用热磷酸去除氮化硅是难以控制的，通过使用检控样片来进行定时操作。在曝露的氮化硅上常常会形成一层氮氧化硅，因此在去除氮化硅前，需要再HF酸中进行短时间处理。如果这一层氮氧化硅没有去掉，或许就不能均匀地去除氮化硅。
答案解析:有
微信扫一扫手机做题
多做题，通过考试没问题！
半导体芯片制造工
半导体芯片制造工
叙述氮化硅的湿法化学去除工艺。
微信扫一扫手机做题