制造霍尔元件的半导体材料中，目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟，其原因是这些（）。

• A、半导体材料的霍尔常数比金属的大
• B、半导体中电子迁移率比空穴高
• C、半导体材料的电子迁移率比较大
• D、N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件