采用LPCVD TEOS淀积的是什么膜?这层膜的优点是什么?
正确答案:多晶硅薄膜
用TEOS(正硅酸乙酯)-臭氧方法淀积SiO2 Si(C2H5O4)+8O3 SiO2+10H2O+8CO2
优点:
A.低温淀积;
B.高的深宽比填隙能力;
C.避免硅片表面和边角损伤。
用TEOS(正硅酸乙酯)-臭氧方法淀积SiO2 Si(C2H5O4)+8O3 SiO2+10H2O+8CO2
优点:
A.低温淀积;
B.高的深宽比填隙能力;
C.避免硅片表面和边角损伤。
答案解析:有

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采用LPCVD TEOS淀积的是什么膜?这层膜的优点是什么?
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