多做题，通过考试没问题！
集成电路制造工艺员
睦霖题库
>
通信电子计算机技能考试
>
集成电路制造工艺员
扩散工艺现在广泛应用于制作（）。
A、晶振
B、电容
C、电感
D、PN结
正确答案:
D
答案解析:
有
进入题库查看解析
微信扫一扫手机做题
最新试题
·
用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶
·
下列哪些因素不会影响到显影效果的是（）。
·
从电极的结构看，溅射的方法包括（）。
·
（）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不
·
在空位扩散中，如果迁移的空位的原子是杂质
·
在确定扩散率的实验中，扩散层电阻的测量可
·
电阻器如何分类？电阻器的主要技术指标有哪
·
离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的
·
按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。
·
真空镀膜室是由（）几部分组成。
热门试题
·
在各种离子源常用的放电方式中，EOS是指
·
在保证贴片质量的前提下，贴片应该考虑哪些
·
电子产品的设计文件有什么作用？
·
试说明ICT测试电阻器阻值的原理？为什么
·
铜与铝相比较，其性质有（）。
·
请在下列选项中选出硅化金属的英文简称：（
·
溅镀法，因为其阶梯覆盖的能力不良，很容易
·
试总结电子元器件大致分为几代；对电子元器
·
ESD产生（）种不同的静电总类。
·
扩散工艺在现在集成电路工艺中仍然是是一项
微信扫一扫-
搜题找答案
×
