化工化学水装置原水低硅水中含量较高的阴离子有四种，分别为（）。

• A、HCO₃^-、CL^-、SO₄^2-、HSiO₃^-
• B、HCO₃^-、CL^-、SO₄^2-、CO₃^2-
• C、HCO₃^-、CO₃^2-、CL^-、NO₃^-
• D、HCO₃^-、CO₃^2-、SO₄^2-、HSiO₃^-