半导体三极管工作过程中（）。

• A、发射区杂质浓度大于基区杂质浓度；
• B、发射区杂质浓度小于基区杂质浓度；
• C、发射区杂质浓度等于基区杂质浓度；
• D、发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。