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集成电路制造工艺员

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He,OH,Na等元素在900℃下,在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm2/s,这些元素称为()。

  • A、活跃杂质
  • B、快速扩散杂质
  • C、有害杂质
  • D、扩散杂质
正确答案:B
答案解析:
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