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集成电路制造工艺员
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集成电路制造工艺员
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有（）。
A、CF
4
B、BCl
3
C、Cl
2
D、F
2
E、CHF
3
正确答案:
B,C
答案解析:
有
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